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  • IV測(cè)試真空探針臺(tái)
    IV測(cè)試真空探針臺(tái)

    IV測(cè)試真空探針臺(tái),可預(yù)留接口以備安裝電子閥及流量計(jì)之用,充入其它氣體使用,溫度范圍為77.15K至673.15K(-196攝氏度到400攝氏度)

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  • 氣敏測(cè)試真空腔體微型探針臺(tái)臺(tái)
    氣敏測(cè)試真空腔體微型探針臺(tái)臺(tái)

    氣敏測(cè)試真空腔體微型探針臺(tái)臺(tái),可預(yù)留接口以備安裝電子閥及流量計(jì)之用,充入其它氣體使用,溫度范圍為77.15K至673.15K(-196攝氏度到400攝氏度)

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  • 高溫微型真空探針臺(tái)
    高溫微型真空探針臺(tái)

    高溫微型真空探針臺(tái),可預(yù)留接口以備安裝電子閥及流量計(jì)之用,充入其它氣體使用,溫度范圍為77.15K至673.15K(-196攝氏度到400攝氏度)

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  • 電信號(hào)測(cè)試真空微型探針臺(tái)
    電信號(hào)測(cè)試真空微型探針臺(tái)

    電信號(hào)測(cè)試真空微型探針臺(tái),可預(yù)留接口以備安裝電子閥及流量計(jì)之用,充入其它氣體使用,溫度范圍為77.15K至673.15K(-196攝氏度到400攝氏度)。

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  • 微型氣敏探針臺(tái)
    微型氣敏探針臺(tái)

    微型氣敏探針臺(tái),可預(yù)留接口以備安裝電子閥及流量計(jì)之用,充入其它氣體使用,溫度范圍為77.15K至673.15K(-196攝氏度到400攝氏度)

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  • 實(shí)驗(yàn)室高溫蒸鍍儀
    實(shí)驗(yàn)室高溫蒸鍍儀

    實(shí)驗(yàn)室高溫蒸鍍儀,觸摸屏控制,可調(diào)節(jié)功率和蒸鍍時(shí)間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時(shí)間,保護(hù)樣品

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  • 高溫金屬蒸鍍真空鍍膜儀
    高溫金屬蒸鍍真空鍍膜儀

    高溫金屬蒸鍍真空鍍膜儀,觸摸屏控制,可調(diào)節(jié)功率和蒸鍍時(shí)間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時(shí)間,保護(hù)樣品

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  • 電極、高溫真空蒸鍍鍍膜
    電極、高溫真空蒸鍍鍍膜

    電極、高溫真空蒸鍍鍍膜,觸摸屏控制,可調(diào)節(jié)功率和蒸鍍時(shí)間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時(shí)間,保護(hù)樣品

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  • 高溫真空蒸鍍膜厚監(jiān)測(cè)
    高溫真空蒸鍍膜厚監(jiān)測(cè)

    高溫真空蒸鍍膜厚監(jiān)測(cè),觸摸屏控制,可調(diào)節(jié)功率和蒸鍍時(shí)間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時(shí)間,保護(hù)樣品

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  • 高溫真空加熱蒸鍍儀
    高溫真空加熱蒸鍍儀

    高溫真空加熱蒸鍍儀,觸摸屏控制,可調(diào)節(jié)功率和蒸鍍時(shí)間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時(shí)間,保護(hù)樣品

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